光刻機(jī)研發(fā)迫在眉睫，新規(guī)再次出爐，臺(tái)積電可能也沒(méi)料到
芯片制造重中之重，但我國(guó)發(fā)展略顯緩慢
雖然華為會(huì)設(shè)計(jì)芯片，但歸根結(jié)底，華為遭遇難題最大的根源在于芯片制造。目前行業(yè)當(dāng)中，芯片制造主要靠?jī)杉移髽I(yè)，一個(gè)是臺(tái)積電，另一個(gè)是三星。我國(guó)在這方面雖然也有一定技術(shù)，但和臺(tái)積電之間的實(shí)力相差不少。最重要的是，目前臺(tái)積電、三星都在5nm、4nm等技術(shù)上有所發(fā)展，而我國(guó)還停留在14nm，7nm制造都成了一個(gè)難題。
造成這種情況最主要的原因就是因?yàn)槲覈?guó)無(wú)法進(jìn)口EUV光刻機(jī)。因?yàn)閭鹘y(tǒng)的DUV光刻機(jī)無(wú)法制造7nm及以上的芯片產(chǎn)品，想要打造先進(jìn)工藝，只能選擇EUV光刻機(jī)。但因?yàn)楦鞣N因素的限制，卻導(dǎo)致遲遲買(mǎi)不到相關(guān)設(shè)備，這就直接導(dǎo)致我國(guó)芯片制造進(jìn)度緩慢。
意料之外，EUV光刻機(jī)又被針對(duì)
而近日，關(guān)于光刻機(jī)的新規(guī)又一次出爐，這次新規(guī)的出現(xiàn)讓讓不少人都有些措手不及，甚至臺(tái)積電、三星等企業(yè)都沒(méi)有料到。根據(jù)新規(guī)表示，未來(lái)ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備，不僅出貨需要通過(guò)許可，甚至還不能進(jìn)入外企在中國(guó)的分廠。這也就是說(shuō)國(guó)外芯片企業(yè)在國(guó)內(nèi)的分廠，也無(wú)法買(mǎi)到先進(jìn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備。
要知道，臺(tái)積電、三星、SK等全球性質(zhì)的芯片企業(yè)巨頭在國(guó)內(nèi)都有大量的分廠，甚至SK的大部分產(chǎn)能都是在國(guó)內(nèi)完成的，而這一規(guī)則的出現(xiàn)無(wú)疑直接影響到了這些企業(yè)的制造進(jìn)度和發(fā)展?fàn)顟B(tài)。所以說(shuō)不管是臺(tái)積電還是三星，面對(duì)這次新規(guī)都未能幸免。
這一規(guī)則的出現(xiàn)不管是對(duì)企業(yè)發(fā)展還是對(duì)我國(guó)的企業(yè)發(fā)展情況都是一個(gè)壞處。首先對(duì)于企業(yè)而言，無(wú)法將先進(jìn)設(shè)備購(gòu)入到國(guó)內(nèi)分廠，就意味著這些分廠在訂單制造方面只能選擇落后的成熟技術(shù)。而這也會(huì)導(dǎo)致部分企業(yè)會(huì)選擇性地離開(kāi)國(guó)內(nèi)建廠，這就會(huì)導(dǎo)致建廠成本提升，風(fēng)險(xiǎn)加大。
其次，一旦企業(yè)離開(kāi)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)到其他地方發(fā)展，這就直接減緩了當(dāng)?shù)氐陌l(fā)展速度，對(duì)于當(dāng)?shù)亟?jīng)濟(jì)來(lái)說(shuō)也是一種損失。
自研光刻機(jī)迫在眉睫
不難看出，這次新規(guī)針對(duì)的其實(shí)還是EUV光刻機(jī)以及我國(guó)的芯片發(fā)展速度。但越是在這種情況下，光刻機(jī)的研發(fā)就越是迫在眉睫。雖然我們可能做不到全部零件都實(shí)現(xiàn)自主研發(fā)生產(chǎn)，但只要實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵零部件去美化，純國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的制造和生產(chǎn)或許并不是天方夜譚。要知道，目前上海微電子已經(jīng)在28nm光刻機(jī)的生產(chǎn)上有所成績(jī)，一些關(guān)鍵性技術(shù)方面也有突破，只要保證這種狀態(tài)，光刻機(jī)難題遲早會(huì)實(shí)現(xiàn)突破。
